日 時:2005年10月27,28日 場 所:東京工業大学 受 賞:藤戸啓輔君(博士3年) 研究奨励賞「Buffer/Si基板上のPZT薄膜の配向性が残留応力と 誘電特性に及ぼす影響」 ![]() 懇親会で記念写真 |
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日 時:2005年7月21,22日 場 所:栃木県勤労者休養施設 かもしか荘 受 賞: 1.中尾 麗さん(修士1年) 優秀賞「スパッタリング法によるミクロンオーダー厚さのPMN-PT 薄膜合成と電気的、光学的特性」 2.飯森奈央彦君(修士1年) 奨励賞「CVD法によるPZT薄膜の残留応力制御と特性への影響」 3.町 雅博君(修士1年) 奨励賞「ゲート上にバリウムフェライト薄膜を形成したMOSFET の高移動度化」 |
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